供应日立FT9500膜厚分析仪

仪器简介：
SFT9500的X射线发生系统是X射线聚光系统（聚光导管）与X射线源相结合，产生束斑直径为Φ0.1mm以下高强度的X射线束。所以SFT9500可以对以往由于X射线照射强度不足而导致无法得到理想精度的导线架、接插头、柔性线路板等微小零件及薄膜进行测量。同时，SFT9500采用了高计数率、高分辨率的半导体检测器（*液氮），在测量镀膜厚度的同时，对于欧盟的RoHS&ELV法规所限制的有害元素的分析测量也十分有效。



技术参数：
SFT9500产品规格
可测量元素：原子序数13(Al)～83(Bi)
X射线聚光：聚光方式
X射线源：管电压：50kV 
                管电流：1mA
检测器：Vortex?检测器(*液氮)
分析范围：Φ0.1mm、Φ5mm
样品观察：彩色CCD摄像头（附变焦功能）
滤波器：3种模式自动切换
样品室：样品平台      240(W)×330(D)mm
                 移动量      X：220mm  Y：150mm   Z：150mm
                 载重量      10kg
重量：123kg(不含电脑)
X-ray Station：台式电脑 19"LCD (OS; MS-Windows XP?)
膜厚测量软件：薄膜FP法（较多五层，各层十种元素）
                        检量线法（单层、双层、合金膜厚成分）
定量分析功能：块体FP法
统计处理功能：MS-EXCEL?
报告制作：MS-WORD?
安装环境：温度：10℃～35℃(±)5℃ 
                 湿度：35%～80%
使用电源：接地三头插座 AC100、1**



主要特点：
1. 薄膜?多层膜测量
通过采用新型的毛细管（X射线聚光系统）和X射线源，把与以往机型FT9500同等强度的X射线聚集在30 μmΦ的较微小范围。因此，不会改变测量精度即可测量几十微米等级的微小范围。
同时，也可对几十纳米等级的Au/Pd/Ni/Cu多镀层的各层膜厚进行**测量。
2. 异物分析
通过高能量微小光束和高计数率检测器的组合，可进行微小异物的定性分析。利用CCD摄像头选定样品的异物部分并照射X射线，通过与正常部分的能谱差进行异物的定性分析（Al～U）。
3. 数据编辑功能
配备了Microsoft? Excel和Microsoft? Word。在Microsoft? Excel上面配备了统计处理软件，可以进行测量数据、平均值、较大/较小值、C.V.值、Cpk等的统计处理。 另外，通过Microsoft? Word可以简单的制作包含了样品画图的测量报告书。
4. 高强度照射
通过高强度照射在微小部分也可以鲜明的观察、聚焦位置。
方案优势
聚光式X射线荧光膜厚仪 SFT9500，采用了两项XRF良好的技术 1聚光式X射线系统 2高计数率型不需液态氮检测器SDD检测器可以实现微小区域的高灵敏度分析